Фотопластический эффект

Эта статья находится на начальном уровне проработки, в одной из её версий выборочно используется текст из источника, распространяемого под свободной лицензией
Материал из энциклопедии Руниверсалис

Фотопластический эффект — явление увеличения сопротивления пластической деформации полупроводников при возникновении внешнего светового излучения. Был открыт Ю. А. Осипьяном и И. Б. Савченко в 1968 г.[1][2][3] Причиной фотопластического эффекта является воздействие света на распределение электрических зарядов внутри кристалла, вызывающее уменьшение скорости дрейфа дислокаций пластической деформации и уплотнение кристаллов.[1]

Примечания

  1. 1,0 1,1 Конюшая Ю. П. Открытия советских учёных. - М., Московский рабочий, 1979. - с. 410
  2. Андреев А. Ф., Алфёров Ж. И., Алдошин С. М., Бредихин С. И., Велихов Е. П., Гантмахер В. Ф., Кведер В. В., Ковальчук М В., Кулаковский В. Д., Матвеев В. А., Месяц Г. А., Тимофеев В. Б. "Памяти Юрия Андреевича Осипьяна Архивная копия от 28 апреля 2019 на Wayback Machine" // УФН 178 1239–1240 (2008)
  3. Вавилов В. С. "Особенности физики широкозонных полупроводников и их практических применений Архивная копия от 28 апреля 2019 на Wayback Machine" // УФН 164 287–296 (1994)

Литература

  • Героргбиани А. Н., Шейнкман М. К. Физика соединений A2B6. - М., Наука,